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半导体元器件常见失效类型

半导体元器件常见失效类型有多种,针对具体分述如下所示:

失效分析概述

失效分析是指对半导体器件的电特性失效采取一系列分析手段,以确定失效的根本原因与机理,并提出相应的预防措施和改进建议。

失效分析的手段

无损检测:采用X射线、3DCT等射线穿透技术,或C-Scan、T-scan等超声扫描方法,在不破坏器件原始封装状态下进行检查。

有损分析:(本文暂不展开讨论)。

失效分析的重要性

失效分析为问题解决提供实验依据,为提升产品可靠性提供科学支持,并从微观结构层面探究器件的不稳定因素及其影响条件,如工作状态、环境应力和时间等。

常见失效表现

半导体器件常见的失效模式包括:开路、短路、功能丧失、性能退化、重测合格以及结构异常。

常见的失效现象有:烧毁、气密性失效、腐蚀或引脚断裂、环氧树脂开裂、芯片粘结不良等。

失效现象往往具有复杂性,可能由多种因素共同导致,需进行系统性的综合分析。

封装缺陷与失效

封装缺陷与失效的研究方法

封装失效主要包括过应力失效与磨损失效。其影响因素涵盖材料、设计、环境与工艺等多个方面。常用的确定方法包括试验验证、模拟仿真、物理建模、数值参数分析以及试差法(后者效率较低、成本较高)。

引发失效的负载类型

机械载荷:如物理冲击、振动、应力或惯性力,可能导致变形、断裂、分层或疲劳裂纹。

热载荷:如高温、预热或成型工艺中的温度变化,可能引起尺寸变化、热膨胀系数(CTE)失配、局部应力或燃烧。

电载荷:如电冲击、电压波动、电流变化或静电放电,可能导致介质击穿、表面放电、热损耗或电解腐蚀。

化学载荷:如腐蚀、氧化或离子诱导的枝晶生长,其中湿气是主要诱因,可导致性能下降或功能失效。

交互作用:多种载荷可能共同作用于塑封器件,产生协同效应,如CTE失配加剧机械失效或应力加速腐蚀。综合失效机理的影响往往大于各单一因素影响的简单叠加。

封装体失效的分类

分层:

定义:指塑封料与相邻材料在粘接界面发生分离。

原因:主要受湿气、温度及其共同作用影响,高温下湿气压力是导致分层的主要机制。

影响因素:包括无铅焊接的高回流温度、吸湿膨胀系数及封装工艺不良等。

后果:分层会为水汽扩散提供路径,并可能引发树脂裂纹。

气相诱导裂缝(“爆米花”现象):

定义:指封装体内水汽在高温下迅速汽化导致封装体爆裂的现象。

易发器件:常见于大而薄的塑封形式、芯片底座面积占比较大或塑封料厚度较小的器件。

伴随问题:可能引起键合球断裂、硅片凹坑等。

改善方法:通过高温烘除湿气,建议将湿气含量控制在1100×10⁻⁶以下。

脆性断裂:

发生材料:如硅芯片等低屈服强度和非弹性材料。

原因:通常由过应力引发,起源于材料内部的微小缺陷(如空洞或杂质)。

韧性断裂:

发生材料:多见于塑封料,受环境与材料特性(如温度、树脂粘塑性及填充量)影响。

疲劳断裂:

定义:在周期性湿、热或机械载荷作用下,塑封材料因疲劳累积而发生的断裂。

加速失效的因素

以下因素可能显著加速半导体器件的失效:

湿气:加速分层、裂纹与腐蚀,影响塑封料的玻璃化转变温度、弹性模量和体积电阻率。

温度:温度变化影响封装材料的玻璃化转变温度、热膨胀系数及热-机械应力,进而改变材料属性、湿气扩散速率和金属间扩散行为。

污染物与溶剂环境:为失效萌生和扩展提供条件,污染可来自大气、湿气或助焊剂残留等,侵入金属部位引发腐蚀。

残余应力:产生于芯片粘结和模塑成型过程,应力大小与材料特性及工艺密切相关。

自然环境应力:如紫外线、臭氧、高温高湿环境可导致塑封料降解,如聚合物断链。

制造与组装载荷:温度变化、机械操作等工艺载荷可能引发封装失效,“爆米花”现象即为典型例子。

综合载荷与应力条件:多因子共同作用常进一步加速失效,该原理常用于加速试验中以筛选缺陷品和识别易失效器件。

可靠性测试

半导体器件封装完成后,需进行一系列可靠性测试,以全面评估其在长期使用中的稳定性与质量。这些测试模拟实际应用中的极端条件,确保器件在规定的条件和时间内可靠运行。

常见可靠性测试项目

高温存储寿命测试(HTSL)

在150℃环境下不通电存储,分别于168h、500h、1000h后测试电特性,并与初始值比较。

高温反偏测试(HTRB/GB)

在150℃、80%RH湿度条件下,对功率器件的基极或门极施加反偏电压,持续一定时间后测量电特性。

高温工作寿命测试(HTOL)

在125℃环境中施加额定最高电压和正常工作电压,持续试验后读取电参数。

高温高湿反偏测试(THBT)

条件为85℃、85%RH,施加最小工作电压,持续试验后检测电性能。

温度循环试验(TCT)

在–65℃~150℃或–55℃~150℃之间进行温度循环,于特定循环次数后评估电特性。

压力锅试验(PCT)

将器件置于121℃饱和蒸汽环境中加压处理,持续一定时间后测试性能。

高加速温湿度应力试验(HAST)

在130℃、85%RH条件下加偏压与压力,用于快速检验产品可靠性,条件较为严苛。

其他重要测试项目

晶须生长测试

评估引脚电镀层在高温高湿环境下金属须的生长情况,防止因晶须导致短路。

离子迁移测试

考察电场与湿度条件下封装内离子迁移行为及其对电性能的影响。

气密性测试

采用氦质谱检漏等方法检验封装体的密封性能,适用于对气密性要求较高的器件。

热机械应力测试

通过温度与机械应力循环,评估封装结构在热机械载荷下的变形与开裂倾向。

综上,可靠性测试是半导体器件封装不可或缺的环节,通过系统性的试验评估与数据分析,可为产品设计与工艺优化提供关键依据,最终保障器件的长期可靠性与质量。



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